TSMC приобрела литографы High-NA EUV, но не будет использовать в массовом производстве
Компания продолжает тестирование передового оборудования ASML, сохраняя при этом приоритет проверенных сканеров для обеспечения стабильного выхода годных чипов.
Тег
Материалы, в которых упоминается ASML.
Компания продолжает тестирование передового оборудования ASML, сохраняя при этом приоритет проверенных сканеров для обеспечения стабильного выхода годных чипов.
Новый генеральный директор Nikon Ясухиро Охмура намерен сделать литографические системы ключевым драйвером роста компании до 2031 года.
Руководители SMIC, YMTC и Naura на конференции отметили фрагментацию отечественного рынка оборудования для чипов. Несмотря на инвестиции, аналоги EUV-литографов...
Монополист EUV-литографии для ИИ-микросхем активизирует разработку инструментов для сборки и корпусирования чипов. Новый CTO Марко Питерс акцентирует планы на 1...